电镀设备的工艺要求：
1. 镀层与基体金属、镀层与镀层之间，应有良好的结合力。
2. 镀层应结晶细致、平整、厚度均匀。
3. 镀层应具有规定的厚度和尽可能少的孔隙。
4. 镀层应具有规定的各项指标，如光亮度、硬度、导电性等。
5. 电镀时间及电镀过程的温度，决定镀层厚度的大小。
6.环境温度为-10℃～60℃。
7.输入电压为220V±22V或380V±38V。
8.水处理设备最.大工作噪声应不大于80dB(A)。
9.相对湿度(RH)应不大于95%。
10.原水COD含量为100mg/L～150000mg/L。
电解电源的简介：
电解电源广泛应用于冶金工业中，小型成套氧化设备，如从矿石或化合物提取金属(电解冶金)或提纯金属(电解提纯)，以及从溶液中沉积出金属(电镀)。金属.钠和氯.气是由电解溶融氯化钠生成的；电解氯化钠的水溶液则产生氢氧化钠和氯.气。电解水产生氢气和氧气。水的电解就是在外电场作用下将水分解为H2（g）和O2（g）。直流电源电解是一种非常强有力的促进氧化还原反应的手段，许多很难进行的氧化还原反应，都可以通过直流电源电解来实现。
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